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磁控濺射鍍膜機工作原理是在真空狀態下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不鏽鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結合牢固，利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附着力、重複性、緻密度、均勻度等特點。適合於塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業，具有很好的發展前景。
磁控濺射鍍膜工藝六大常見問題點及改善對策：
1.膜層灰暗及發黑
(1)真空度低於0.67Pa。應將真空度提高到0.13-0.4Pa。
(2)氬氣純度低於99．9％。應換用純度為99．99％的氬氣。
(3)充氣系統漏氣。應檢查充氣系統，排除漏氣現象。
(4)底漆未充分固化。應適當延長底漆的固化時間。
(5)鍍件放氣量太大。應進行乾燥和封孔處理
2.膜層表面光澤暗淡
(1)底漆固化不良或變質。應適當延長底漆的固化時間或更換底漆。
(2)濺射時間太長。應適當縮短。
(3)濺射成膜速度太快。應適當降低濺射電流或電壓
3.膜層色澤不均
(1)底漆噴塗得不均勻。應改進底漆的施塗方法。
(2)膜層太薄。應適當提高濺射速度或延長濺射時間。
(3)夾具設計不合理。應改進夾具設計。
(4)鍍件的幾何形狀太複雜。應適當提高鍍件的旋轉速度
4.膜層發皺、龜裂
(1)底漆噴塗得太厚。應控制在7—lOtan厚度範圍內。
(2)塗料的粘度太高。應適當降低。
(3)蒸發速度太快。應適當減慢。
(4)膜層太厚。應適當縮短濺射時間。
(5)鍍件溫度太高。應適當縮短對鍍件的加溫時間
5.膜層表面有水跡、指紋及灰粒
(1)鍍件清洗后未充分乾燥。應加強鍍前處理。
(2)鍍件表面濺上水珠或唾液。應加強文明生產，操作者應帶口罩。
(3)塗底漆後手接觸過鍍件，表面留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍件表面。
(4)塗料中有顆粒物。應過濾塗料或更換塗料。
(5)靜電除塵失效或噴塗和固化環境中有顆粒灰塵。應更換除塵器，並保持工作環境的清潔
6.膜層附着力不良
(1)鍍件除油脫脂不徹底。應加強鍍前處理。
(2)真空室內不清潔。應清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過程中，嚴禁用手或不乾淨的物體與磁控源接觸，以保証磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結合力的重要措施之一。
(3)夾具不清潔。應清洗夾具。
(4)底塗料選用不當。應更換塗料。
(5)濺射工藝條件控制不當。應改進濺射鍍工藝條件。
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