PVD真空电镀工艺的特点:
1.真空镀膜、PVD、真空镀膜层的特性:
PVD真空镀膜技术可在产品表面形成金属光泽的外观、颜色均匀一致、耐久的表面,在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下 保持良好外观。颜色深韵、光亮、经济,可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境友好无毒无害,无化学中毒的风险,具备广泛的生物兼容性;
2.PVD真空镀膜层的特性:
PVD真空镀膜具有卓越的附着力:可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜具有很高附着力和耐久力)。其它的技术,包括水电镀,喷涂都不能与其相比。可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案、可以使用在内装修或者室外抗氧化,抗腐蚀的场合中;
3.PVD膜层的抵抗力:
PVD真空镀膜层具有耐腐蚀,化学性能稳定、抗酸;在常规环境下,户内或者户外,都具有抗氧化、不褪色、 不失去光泽且不留下痕迹等优异的特点;正常的使用情况下不会破损。不褪色、容易清除油漆和笔迹;在强烈的阳光、高盐的湿地和城市环境下,都不会失去光泽,抗氧化,不褪色,不脱落、不爆裂;PVD真空镀膜层颜色种类丰富,表面细腻光滑,富有金属光泽,永不褪色。 在烈日、潮湿等恶劣环境中镀膜层不变色、不脱落,性能稳定。高度耐磨损,耐刮擦,不易划伤、可镀材料广泛,与基材附着结合力比较强;
4.环保无毒:
PVD高真空离子镀膜技术——对人体和地球生态环境真正无害,越来越多的应用到现代工业制造用途;
5.适用性:
手机外壳真空镀膜可镀IPG、IP黄色、仿金、IPG玫瑰金底色、IPS白钢、IPS白铬、IP炉内玫瑰金、IPB咖啡色、IP铬、IP钛色、棕色、蓝色及IPB黑、枪色等。